Pat
J-GLOBAL ID:200903075709333416

磁気記録媒体、磁気記録装置、および磁気記録媒体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004210459
Publication number (International publication number):2006031852
Application date: Jul. 16, 2004
Publication date: Feb. 02, 2006
Summary:
【課題】保護膜損傷の影響を大幅に低減し、磁性層の劣化によるSNR低下を抑制できる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性体基板上に形成された、記録トラックに相当する磁性層パターンおよび記録トラックを分離する溝を埋め込む非磁性層と、前記磁性層パターンおよび非磁性層上に形成されたカーボン保護膜とを有し、前記磁性層パターン上のカーボン保護膜の厚さが、前記非磁性体層上のカーボン保護膜の厚さよりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
非磁性体基板上に形成された、記録トラックに相当する磁性層パターンおよび記録トラックを分離する溝を埋め込む非磁性層と、前記磁性層パターンおよび非磁性層上に形成されたカーボン保護膜とを有し、前記磁性層パターン上のカーボン保護膜の厚さが、前記非磁性体層上のカーボン保護膜の厚さよりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (3):
G11B 5/72 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84
FI (3):
G11B5/72 ,  G11B5/82 ,  G11B5/84 B
F-Term (12):
5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006AA06 ,  5D006BB02 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112BB05 ,  5D112BC05 ,  5D112FA09 ,  5D112GA20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (2)

Return to Previous Page