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J-GLOBAL ID：200903075752985800

蛍光X線分析装置

Inventor：
桑原 章二

About 桑原 章二


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 縣 浩介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998131183
Publication number (International publication number)：1999014570
Application date： Apr. 24, 1998
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：
【要約】【課題】 単色X線を試料に照射する型の蛍光X線分析装置で複数種の波長の1次X線を選択可能としたものは、複数のX線管と夫々に対応するX線分光手段を用いていたので、装置が大型,複雑,高価である。この点を改善する。【解決手段】 一つのX線管1のX線発生点Pを共通のX線入射点とし、試料2上の一点Qを共通のX線収束点とする複数種の分光結晶51〜56をX線発生点Pと試料上のX線収束点Qを結ぶ直線の周りに配置した。
Claim (excerpt)：
一つのX線管と、そのX線発生点と試料が置かれる場所の一つの点とを結ぶ直線の周りに配置され、上記X線発生点をX線の入射点とし、上記試料が置かれる場所の一つの点をX線の収束点とする複数のX線分光器と、上記各X線分光器の分光結晶へのX線入射側と分光結晶からの出射側とに配置されて、各分光結晶から試料に向かうX線のみを通すX線分光器毎の入射側スリットおよび出射側スリットとよりなる蛍光X線分析装置。
IPC (2)：
G01N 23/223 ,  G21K 1/06
FI (2)：
G01N 23/223 ,  G21K 1/06 S
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 全反射型蛍光X線分析方法及び分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-023479   Applicant：株式会社日立製作所
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-328468   Applicant：理学電機工業株式会社
  • 特開平4-115199
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