飛程変調装置及びこの飛程変調装置を用いた荷電粒子線治療装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮田金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998088562
Publication number (International publication number)：1999285544
Application date： Apr. 01, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】従来の荷電粒子線照射装置では、任意の照射野における荷電粒子の粒子強度をビーム拡大装置により平坦に調整しても、荷電粒子が飛程変調装置を通過することによりその荷電粒子の飛程変調と共に粒子強度も変調され、三次元的に平坦な線量分布を作ることが困難であった。【解決手段】荷電粒子線が入力され、上記荷電粒子線の飛程を調整すると共に、上記荷電粒子線が入力された入力位置に基づき上記荷電粒子線に所定の散乱効果を付与する飛程変調体と、上記飛程変調体から出力された上記荷電粒子線が入力され、上記荷電粒子線に付与された散乱効果を入力位置に拘わらず一様に調整して出力する散乱補償体とを有することを特徴とする飛程変調装置。

Claim (excerpt)：

荷電粒子線が入力され、上記荷電粒子線の飛程を調整すると共に、上記荷電粒子線が入力された入力位置に基づき上記荷電粒子線に所定の散乱効果を付与する飛程変調体と、上記飛程変調体から出力された上記荷電粒子線が入力され、上記荷電粒子線に付与された散乱効果を入力位置に拘わらず一様に調整して出力する散乱補償体とを有することを特徴とする飛程変調装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

マルチリング型レンジモジュレータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-092274 Applicant：住友重機械工業株式会社, 筑波大学長
荷電粒子ビーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-291460 Applicant：株式会社日立製作所
荷電粒子線照射野形成装置およびそのリッジフィルタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-131940 Applicant：株式会社日立製作所

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