荷電粒子線照射装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮田金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998085415
Publication number (International publication number)：1999281797
Application date： Mar. 31, 1998
Publication date： Oct. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】従来の荷電粒子線照射装置では、荷電粒子ビームが、荷電粒子線照射装置を構成する各装置、及び患者の体内を経ることにより、ビーム拡散装置や飛程変調装置での調整に加えて更なる散乱効果が加えられ、その照射野の境界があいまいになっていた。このため、患者の患部以外の部分に荷電粒子線が照射されるという問題があった。【解決手段】荷電粒子線を射出する照射部と、上記荷電粒子線の調整を行う調整部と、この調整された荷電粒子線に平行な磁場を発生させる磁場発生部と、上記磁場を経た荷電粒子線が照射される被照射体の被照射部とを有する。

Claim (excerpt)：

荷電粒子線を射出する照射部と、上記荷電粒子線の調整を行う調整部と、この調整された荷電粒子線に平行な磁場を発生させる磁場発生部と、上記磁場を経た荷電粒子線が照射される被照射体の被照射部とを有することを特徴とする荷電粒子線照射装置。

IPC (3)：

G21K 5/04 , A61N 5/10 , H01J 37/147

FI (3)：

G21K 5/04 A , A61N 5/10 D , H01J 37/147 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

治療用π中間子照射方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-358250 Applicant：工業技術院長, 川崎重工業株式会社
荷電粒子治療装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-106209 Applicant：株式会社日立メディコ
医療用荷電粒子照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-233084 Applicant：株式会社日立製作所

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