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J-GLOBAL ID:200903075872011620

分子インプリントポリマー材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  岩田 慎一 ,  緒方 雅昭
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004520873
Publication number (International publication number):2005533146
Application date: Jul. 11, 2003
Publication date: Nov. 04, 2005
Summary:
鋳型、可塑剤(抽出不能成分)、および細孔形成成分(抽出可能成分)の存在下に、機能性モノマーと架橋剤とを共重合させることによって高多孔性基質選択ポリマー膜を製造した。鋳型および孔形成剤分子を抽出すると、鋳型分子に相補的な形状および機能性基の配列を有する小さな細孔を含む、小さな細孔(<100nm)および大きな細孔(>500nm)が形成される。膜は、鋳型等に対して高い親和力を有し、また、高い可撓性と多孔度を有する。このような膜は、薬理学、医学、食品産業、水精製および環境浄化での応用のための分析化学(センサー素子としておよび固相抽出素材用)において使用できる。
Claim (excerpt):
(a)鋳型、少なくとも1種の機能性モノマー、架橋剤、可塑剤および細孔形成成分を含む混合物を重合させること、および(b)前記の鋳型および孔形成剤を抽出して、可撓性のある多孔性ポリマー膜を形成することを含む基質選択膜の合成方法。
IPC (4):
C08J9/26 ,  B01D69/06 ,  B01D71/38 ,  B01D71/40
FI (6):
C08J9/26 101 ,  C08J9/26 102 ,  C08J9/26 ,  B01D69/06 ,  B01D71/38 ,  B01D71/40
F-Term (17):
4D006GA50 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006MA26 ,  4D006MC21 ,  4D006MC24 ,  4D006MC35 ,  4D006MC36X ,  4D006NA44 ,  4D006NA50 ,  4D006PC80 ,  4F074AA51A ,  4F074BB28 ,  4F074CB03 ,  4F074CC50X ,  4F074DA43 ,  4F074DA59
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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