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J-GLOBAL ID：200903075954425423

大きい領域を有するプラズマ源における均一ガス分布

Inventor： コルポ,パスカル ,  ロッシ,フランソワ
Applicant, Patent owner： ユーロピアン コミュニティ(イーシー)
Agent (1)： 伊東 忠彦 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001527314
Publication number (International publication number)：2003510780
Application date： Sep. 18, 2000
Publication date： Mar. 18, 2003
Summary：

【要約】本発明の装置は、プラズマ処理チャンバ(20)内のフィールドアドミッション窓(22)を介し時間変動する磁場を発生させ、誘導結合によりチャンバ内にプラズマを発生し且つ維持する。装置は、磁極面構造(38a)を有する磁気コア(38)と、磁気コアに関連付けられる誘導子手段(40)とを含み、これらは、磁極面構造全体に亘って時間変動する磁場を発生し、装置は更に、磁気コアを通りチャンバ内にガスを注入するための手段(42、44、48、51)を含む。

Claim (excerpt)：

誘導結合によりプラズマ処理チャンバ(20)内にプラズマを形成又は維持するよう上記チャンバ内に時間的に変動する磁場を発生させる装置であって、 磁極面(38a;39a)を有する磁気コア(38;138)と、 上記磁気コアに関連付けられ、上記磁極面全体に時間変動する磁場を発生させる誘導子手段(40)と、 上記磁気コアを通り、上記チャンバ内にガスを注入する手段(42、43、44、45、48、49、51、91、93、95、142、144)とを含むことを特徴とする装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/505 ,  H01J 37/32

FI (4)：

H05H 1/46 L ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/505 ,  H01J 37/32

F-Term (19)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BB10 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC08 ,  4G075BC10 ,  4G075CA03 ,  4G075CA42 ,  4G075CA47 ,  4G075DA18 ,  4G075EC01 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-218433
  
• 光導波路チップの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-086268   Applicant：株式会社サムコインターナショナル研究所
• PIG型イオン源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-240751   Applicant：株式会社神戸製鋼所, 株式会社東京精密, 日本フィジテック機器株式会社
• 透磁コアを有する誘導結合型-平面状プラズマの発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-295826   Applicant：株式会社アドテック