レーザ顕微鏡及びこのレーザ顕微鏡を用いたパターン検査装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村暁秀 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997088116
Publication number (International publication number)：1998282010
Application date： Apr. 07, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】高速で撮像できるレーザ顕微鏡及び高感度で高速に検査できるパターン検査装置を提供する。【解決手段】光源装置(1,10) から第1の方向に整列した複数の光ビームを発生させ、これら光ビームを対物レンズ(6,29) を経て試料(7,30) に投射して光スポット列を形成する。試料を光スポット列と直交する方向に移動させ、又はビーム偏向装置を用いて直交する方向に移動させて2次元走査を行なう。そして、試料上に形成した光スポットからの光をリニアイメージセンサ(11,33)の対応する光検出素子にそれぞれ入射させる。メモリセルのような周期性を有するパータンの検査装置として用いる場合、光スポットのピッチをパターンの配列ピッチに対応させ、各光検出素子からの出力信号を比較することにより欠陥を検出する。

Claim (excerpt)：

第1の方向に沿って整列した複数の光ビームを放出する光源装置と、前記複数のサブビームを集束して観察すべき試料に投射し、試料上に微小な光スポットの列を形成する対物レンズと、観察すべき試料を支持するステージと、このステージを光スポット列の方向と直交する方向に移動させるステージ駆動機構と、前記試料上のスポット列と対応する方向に沿って配列した複数の光検出素子を有するリニアイメージセンサとを具え、前記試料上の各光スポットからの反射光を前記リニアイメージセンサの対応する光検出素子にそれぞれ入射させることを特徴とするレーザ顕微鏡。

IPC (3)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , H01L 21/66

FI (4)：

G01N 21/88 E , G01B 11/30 Z , H01L 21/66 C , H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭50-147286
特開昭63-078008
パターン検査装置、欠陥検査装置およびパターン検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-232565 Applicant：株式会社ニコン

Show all

Return to Previous Page