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J-GLOBAL ID:200903076255786832

酸化チタンの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000098705
Publication number (International publication number):2001278627
Application date: Mar. 31, 2000
Publication date: Oct. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 光触媒活性を示す酸化チタンの簡易な製造方法を提供する。【解決手段】 オキシ蓚酸チタンアンモニウム((NH4)2・TiO(C2O4)2)、硫酸チタンアンモニウム((NH4)2SO4・3Ti2(SO4)3)等のアンモニウム塩とその水和物又はイソプロピルトリス(N-アミノエチル-アミノエチル)チタネート等のチタンキレート化合物を分子状酸素存在下で焼成する。
Claim (excerpt):
窒素とチタンとを含有する化合物を分子状酸素存在下で焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (3):
C01G 23/07 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ZAB
FI (3):
C01G 23/07 ,  B01J 21/06 A ,  B01J 35/02 ZAB J
F-Term (20):
4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BC50C ,  4G069BE17C ,  4G069CA10 ,  4G069CA17 ,  4G069EA02Y ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB40 ,  4G069FC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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