軟X線断層撮影法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：深見久郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995217134
Publication number (International publication number)：1997061379
Application date： Aug. 25, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】軽元素材料中の不純物,欠陥,密度などの空間分布を高いコントラストで撮影することができる軟X線断層撮影法を提供する。【解決手段】軟X線断層撮影法は、1Åを越えて10Åまでの間にある比較的長い波長を有する軟X線を用いて物体の断層像を撮影することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

1Åを越えて10Åまでの範囲内にある波長を有する軟X線を用い、物体の断層像を撮影することを特徴とする軟X線断層撮影法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

単色X線CT装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-044505 Applicant：新日本製鐵株式会社, 高エネルギー物理学研究所長
特開平2-205760
特開昭62-254045

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