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J-GLOBAL ID:200903076658604157

液体の高電圧処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小谷 悦司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000186493
Publication number (International publication number):2002001349
Application date: Jun. 21, 2000
Publication date: Jan. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 電極対間に印加する電圧を所定値以下に抑えても十分な電界強度を電極対間に生じさせると共に、広域的な広がりを持った放電を形成し、高効率で経済的にも有利に液体を改質することのできる液体の高電圧処理装置を提供する。【解決手段】 少なくとも1対の電極対を備えると共に、該電極対のうちの少なくとも一方の電極が液体に浸漬される様に配置され、上記電極対間に高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させることによって、電極対間に存在する液体を改質する様に構成した液体の処理装置において、上記液体に浸漬される電極の近傍に、電界強度500kV/cmよりも大きい値に高められた領域が存在する様に構成したものである。
Claim (excerpt):
少なくとも1対の電極対を備えると共に、該電極対のうちの少なくとも一方の電極が液体に浸漬される様に配置され、上記電極対間に高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させることによって、電極対間に存在する液体を改質する様に構成した液体の処理装置において、上記液体に浸漬される電極の近傍に、電界強度500kV/cmよりも大きい値に高められた領域が存在する様に構成したものであることを特徴とする液体の高電圧処理装置。
IPC (2):
C02F 1/48 ,  C02F 1/46
FI (2):
C02F 1/48 B ,  C02F 1/46 Z
F-Term (13):
4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC09 ,  4D061EA15 ,  4D061EB01 ,  4D061EB07 ,  4D061EB19 ,  4D061EB20 ,  4D061EB33 ,  4D061EB39 ,  4D061FA15 ,  4D061FA20 ,  4D061GC14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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