遠紫外線用ポジ型レジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田治米登 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995353795
Publication number (International publication number)：1997185159
Application date： Dec. 29, 1995
Publication date： Jul. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】ドライエッチング耐性に優れ、しかもL/Sが0.25μm未満となるような高い解像力を示す遠紫外線用ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル系ポリマー、光酸発生剤及び溶解抑止剤を含有する遠紫外線用ポジ型レジスト組成物において、溶解抑止剤として、ビタミンA類又はビタミンD類から選択される光消色性化合物の少なくとも1種を使用する。

Claim (excerpt)：

(メタ)アクリル系ポリマー、光酸発生剤及び溶解抑止剤を含有する遠紫外線用ポジ型レジスト組成物において、溶解抑止剤がビタミンA類又はビタミンD類から選択される光消色性化合物の少なくとも1種であることを特徴とする遠紫外線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-300372 Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-128606 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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