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J-GLOBAL ID：200903087915026536

遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法

Inventor： ロバート・デーヴィッド・アレン ,  リチャード・アンソニー・ディピエトロ ,  グレゴリー・マイケル・ワルロフ
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995128606
Publication number (International publication number)：1996015865
Application date： May. 26, 1995
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 改善された感受性および解像度を有する遠紫外線用放射線感受性レジスト組成物を提供すること。【構成】 本発明のレジスト組成物は、(a)1〜10重量%の放射線感受性の酸生成剤と(b)10〜40重量%の置換アンドロスタンと(c)50〜90重量%の共重合体結合剤とを含む放射線感受性レジスト組成物である。このレジスト組成物は、特に193nmの波長の紫外線で露光され、厚さ1ミクロンのレジスト・フィルムは、約15mJ/cm2未満の放射線量でも十分に像形成できる程度に露光される。

Claim (excerpt)：

放射線感受性酸生成剤と、1〜3個の保護された水酸置換基を有するアンドロスタン-17-アルキルカルボキシレートと、並びに、(a)アクリル酸またはメタクリル酸から選択された単量体、および、(b)メタクリレートまたはアクリレートから選択された単量体との反応生成物を含む共重合体とを含むレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-300372   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 特開平4-230758
  

Cited by examiner (6)

• 特開平4-230758
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-300372   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 特開平4-230758
  
• 特開平1-155339
  
• 特開昭64-080944
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-218703   Applicant：日本電信電話株式会社