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J-GLOBAL ID：200903076915354094

射影リソグラフィー光学系

Inventor：
デヴィッド ロス シェイファー

About デヴィッド ロス シェイファー


Applicant, Patent owner：
ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド

About ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 三俣 弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997113727
Publication number (International publication number)：1998090602
Application date： May. 01, 1997
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】軟X線等よりも長い波長で動作し、全反射光学デザインを用いたリソグラフィー射影系において、反射表面の数に厳しい制限がなく、利用可能なレーザー光源で、かつ、新型でない反射表面を用いる。【解決手段】スペクトルの深紫外領域から真空紫外領域の間で動作し、全反射光学配置を用いて、半導体ウェハー上へリソグラフィーマスクの縮小像を射影する射影リソグラフィー系である。この全反射光学配置は、6〜8の反射表面を有し、各反射表面は非球面である。この反射表面は、共通光軸に沿って配置され、光がリソグラフィーマスクから半導体ウェハーへ進む際に光の経路と干渉しないように配置される。
Claim (excerpt)：
射影リソグラフィーにおいて用いる光学系であって、リソグラフィーマスク(28)からの像が露出波長を用いて半導体ウェハー(30)上に射影され、a)前記リソグラフィーマスク(28)と前記半導体ウェハー(30)の間に配置された少なくとも6個の反射表面(12〜26)を有し、この各反射表面は、非球面であることを特徴とする光学系。
IPC (4)：
G02B 17/06 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G02B 17/06 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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