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J-GLOBAL ID：200903076919124883
セラミック膜式合成ガス反応器
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999155373
Publication number (International publication number)：2000026103
Application date： Jun. 02, 1999
Publication date： Jan. 25, 2000
Summary：
【要約】【課題】 発熱部分酸化反応と吸熱スチーム改質反応の組み合わせを用いて合成ガスを生成するための方法の改良。【解決手段】 空気等の酸素含有含有ガスからの酸素との発熱反応を行わせる少くとも1つの酸素選択性イオン移送膜を有する反応器内において、吸熱反応の所要の熱量が発熱反応によって充足されるように、発熱反応と吸熱反応とを熱的に組み合わせる。使用される反応器の構成により、発熱反応と吸熱反応を両反応に参加するガスの流通を可能にするように組み合わせることもできる。
Claim (excerpt)：
カソード側とアノード側を有する少くとも1つの酸素選択性イオン移送膜素子を備えた反応器内で生成物ガスを生成するための方法であって、酸素含有ガスを前記カソード側に沿って第1方向に流動させて透過酸素画分を該カソード側から前記酸素選択性イオン移送膜素子を通しアノード側へ透過させる工程と、前記酸素含有ガスから第1プロセスガスと第2プロセスガスの両方を隔離して少くとも該第1プロセスガスを前記アノード側に沿って流動させ、該第1プロセスガスを酸素との発熱反応と、第2プロセスガスとの吸熱反応の両方の反応にかける工程と、前記酸素画分を前記第1プロセスガスと発熱反応させるとともに、該第1プロセスガスを前記第2プロセスガスと吸熱反応させる工程と、前記酸素選択性イオン移送膜素子を規定の温度限界内に維持するために前記発熱反応、吸熱反応及び前記反応器内の内部熱伝達の少くとも1つを制御する制御工程と、から成る方法。
IPC (3)：
C01B 3/38
, B01J 8/06 301
, C25B 13/08 301
C01B 3/38
, B01J 8/06 301
, C25B 13/08 301
Cited by examiner (12)
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特開平3-101833
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特開平3-101833
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特表平5-508381
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Article cited by the Patent：
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