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J-GLOBAL ID：200903077275403260

成膜装置用ターゲット構造

Inventor：
山口 宜洋

About 山口 宜洋


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 高橋 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994124370
Publication number (International publication number)：1995310179
Application date： May. 12, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ターゲットの製作工程を簡素化し、歩留りの向上とコストの低減を図るとともに、スパッタ時の再付着膜による不具合の軽減を図る。【構成】 成膜すべき粒子を放出するターゲット部材を電圧印加用の電極部材2に装着した永久磁石方式の成膜装置用ターゲット構造において、前記ターゲット部材3はこれと別部材からなるバッキングプレートを介することなく一体部材のまま前記電極部材2に対し装着される。
Claim (excerpt)：
成膜すべき粒子を放出するターゲット部材を電圧印加用の電極部材に装着した永久磁石方式の成膜装置用ターゲット構造において、前記ターゲット部材はこれと別部材からなるバッキングプレートを介することなく一体部材のまま前記電極部材に対し装着されたことを特徴とする成膜装置用ターゲット構造。
IPC (2)：
C23C 14/34 ,  H01L 21/203
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 粒度が大きい金属膜及びその被着方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-138576   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • 特開昭62-007856
  • 特開昭59-076875
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