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J-GLOBAL ID：200903077313472190

レジスト組成物

Inventor：
尾家 正行

About 尾家 正行

, 
田中 秀行

About 田中 秀行

, 
阿部 信紀

About 阿部 信紀

, 
三沢 真理

About 三沢 真理


Applicant, Patent owner：
日本ゼオン株式会社

About 日本ゼオン株式会社


Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993312671
Publication number (International publication number)：1995092680
Application date： Nov. 18, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)スルホン酸アミド化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)スルホン酸アミド化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-162040
  • 感度安定化ポジ作用性フォトレジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-112062   Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
  • パターン形成用材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-347042   Applicant：ヘキストジャパン株式会社
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