高分子量カルバゾール基含有ポリマー

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007228568
Publication number (International publication number)：2009057528
Application date： Sep. 04, 2007
Publication date： Mar. 19, 2009
Summary：

【課題】成形性、成形物の機械物性に優れたカルバゾール基含有ポリマーを提供すること【解決手段】本発明のカルバゾール基含有ポリマーは、特定の分子量を有することにより、成形性、成形物の機械物性に優れるのみならず、フォトリフラクティブ特性に優れるためフォトリフラクティブの用途において好適に用いることができる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定された重量平均分子量(Mw)が200,000から2,000,000であるカルバゾール基含有ポリマー。

IPC (5)：

C08F 26/12 , G03H 1/04 , G03H 1/22 , C08F 20/34 , G02F 1/361

FI (5)：

C08F26/12 , G03H1/04 , G03H1/22 , C08F20/34 , G02F1/361

F-Term (15)：

2K002BA01 , 2K002CA06 , 2K002GA10 , 2K002HA16 , 2K008AA04 , 2K008DD03 , 2K008DD12 , 2K008HH19 , 4J100AL08P , 4J100AQ26P , 4J100BC65P , 4J100CA01 , 4J100DA01 , 4J100DA61 , 4J100JA32

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

ホログラム形成材料とホログラムの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-015830 Applicant：富士通株式会社
プラスチック光導波路用組成物およびプラスチック光導波路の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-174379 Applicant：富士通株式会社
光学材料、光学素子、回折光学素子、積層型回折光学素子、光学系及び光学素子の成形方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-068112 Applicant：キヤノン株式会社