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J-GLOBAL ID:200903077446845495

ゾル-ゲル法による独立膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 赤岡 迪夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996150359
Publication number (International publication number):1997309717
Application date: May. 21, 1996
Publication date: Dec. 02, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ゾル-ゲル法を用いて、柔軟性を有するオルガノシロキサンを主成分とする平滑かつ緻密で透明な独立膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 オルガノアルコキシシランを含有する出発原料を加水分解・重縮合させて得られたゾルを基材上に展開し、ゲル化させる。三次元網目構造のネットワーク構成単位が、式R<SB>n </SB>SiO<SB>(4-n)/2</SB>(ただし、Rはメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、ビニル基から選ばれる有機基、nは0<n≦1.7である。)であるオルガノポリシロキサンを主成分とする独立ゲル膜を得る。得られた膜中に残存する未反応のシラノール基の重縮合反応を促進するために、塩基性ガス中500°C以下で熱処理してもよい。
Claim (excerpt):
オルガノアルコキシシランを含有する出発原料を加水分解・重縮合させて得られたゾルを基材上に展開し、ゲル化させることを特徴とする独立膜の製造方法。
IPC (4):
C01B 33/113 ,  B01J 19/00 ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/12
FI (4):
C01B 33/113 Z ,  B01J 19/00 K ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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