Pat
J-GLOBAL ID:200903077566189877

高密度多孔体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 祥泰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996069072
Publication number (International publication number):1997227249
Application date: Feb. 28, 1996
Publication date: Sep. 02, 1997
Summary:
【要約】【課題】 嵩密度が高く,均一な細孔径を有し,吸着剤または触媒等として使用する際に,その特性を充分発現することができる,高密度多孔体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径が1〜10nmの範囲内にあり,かつ上記細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径の-40〜+40%の細孔径範囲内に,全細孔容積の60%以上が含まれており,更に,嵩密度が0.5g/cc以上である。原料であるアルコキシラン,水及び界面活性剤を混合,反応させ,シリカ/界面活性剤複合体を形成し,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体から界面活性剤を除去することにより高密度多孔体1を製造するが,上記原料中のH2 O/Siモル比が10以下である。
Claim (excerpt):
細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径が1〜10nmの範囲内にあり,かつ上記細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径の-40〜+40%の細孔径範囲内に,全細孔容積の60%以上が含まれており,更に,嵩密度が0.5g/cc以上であることを特徴とする高密度多孔体。
IPC (5):
C04B 38/06 ,  B01J 20/00 ,  B01J 20/10 ,  B01J 21/08 ,  C01B 33/16
FI (6):
C04B 38/06 D ,  C04B 38/06 G ,  B01J 20/00 ,  B01J 20/10 D ,  B01J 21/08 A ,  C01B 33/16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page