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J-GLOBAL ID：200903077779338086

絶縁膜および絶縁膜形成用塗布液

Inventor： 山田 紀子 ,  片山 真吾 ,  吉永 郁子
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996263155
Publication number (International publication number)：1998102003
Application date： Oct. 03, 1996
Publication date： Apr. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、金属配線上に直接形成可能な、絶縁抵抗が高く比誘電率の低い、半導体装置用層間絶縁膜を提供するものである。【解決手段】 M-O-M結合(MはB,Al,Ti,Ge,Y,Zr,Nb,Taの中から選ばれた少なくとも1種類以上の元素)を有する無機ポリマー骨格中のMの一部をSi(R1)n -(R1 はアルキル基、n=1〜3)で置換した絶縁膜とする。この絶縁膜はSiに結合しているアルキル基のために低誘電率である。また、B,Al,Ti,Ge,Y,Zr,Nb,Taの中から選ばれた少なくとも1種類以上の元素の金属アルコキシドは反応性が高く、アルキルアルコキシシランの重縮合反応を促進するので、形成された膜に残存するシラノール基を著しく低減させ、高い絶縁性を確保できる。

Claim (excerpt)：

M-O-M結合(MはB,Al,Ti,Ge,Y,Zr,Nb,Taの中から選ばれた少なくとも1種類以上の元素)を有する無機ポリマー骨格中のMの一部をSi(R1)n -(R1 はアルキル基、n=1〜3)で置換した絶縁膜。

IPC (6)：

C09D185/00 ,  C08G 77/398 ,  C08G 79/00 ,  C09D183/08 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768

FI (6)：

C09D185/00 ,  C08G 77/398 ,  C08G 79/00 ,  C09D183/08 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/90 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 液晶表示素子用高屈折率絶縁被膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-190773   Applicant：日産化学工業株式会社
• 硬化性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-131914   Applicant：東レ株式会社
• 液晶表示素子用絶縁膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-029213   Applicant：日産化学工業株式会社
• 酸化物被膜形成用塗布液、酸化物被膜の製造法、酸化物被膜及び半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-196207   Applicant：日立化成工業株式会社
• 耐熱絶縁塗料組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-123119   Applicant：品川白煉瓦株式会社