Pat
J-GLOBAL ID：200903077904461553

化粧料

Inventor：
時岡 恭平

About 時岡 恭平

, 
岸本 秀一

About 岸本 秀一


Applicant, Patent owner：
サンスター株式会社

About サンスター株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000042242
Publication number (International publication number)：2001233752
Application date： Feb. 21, 2000
Publication date： Aug. 28, 2001
Summary：
【要約】【課題】 紫外線による紅斑、日焼け、肌荒れの抑制、改善効果に優れた化粧料を提供する。【解決手段】 ヘチマ水とゲンチアナ抽出物を配合することにより紫外線による紅斑、日焼け、肌荒れの抑制、改善効果および使用感の良好な化粧料を得た。
Claim (excerpt)：
ヘチマ水及びゲンチアナ抽出物を配合することを特徴とする化粧料。
IPC (2)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (4)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 N
F-Term (29)：
4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB051 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC582 ,  4C083AC682 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD252 ,  4C083AD332 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (20)
  • 特開平4-036215
  • 特開平4-009313
  • ヘチマ化粧水の製造方法およびヘチマ化粧水
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-189832   Applicant：東洋殖産株式会社
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