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J-GLOBAL ID：200903077971946405

オゾンによる水処理方法及び装置

Inventor： 加藤 康弘 ,  本山 信行 ,  高橋 龍太郎
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999099690
Publication number (International publication number)：2000288561
Application date： Apr. 07, 1999
Publication date： Oct. 17, 2000
Summary：

【要約】【課題】オゾン水処理設備で、消毒副生成物の一つである臭素酸は、生物活性炭でも除去できず塩素とも反応しないため、後段での抑止が不可能で、その生成を押える必要がある。本発明の目的は、この臭素酸生成を抑制しながらトリハロメタン生成能を十分に低減するオゾン注入制御方法を提供することにある。【解決手段】オゾンとトリハロメタン前駆物質との反応は、臭素酸生成反応よりも低溶存オゾン濃度でも優先的に進行するので、オゾン接触槽内の溶存オゾン濃度あるいは接触槽内のオゾン吸収量を監視して、オゾン注入量を制御することにより達成できる。オゾン水処理装置では、接触槽の内部、及び出口に複数個の溶存オゾン濃度度測定装置を設置するか、または注入および排出オゾンガスの濃度及び流量測定装置を設置して、監視することにより制御可能である。

Claim (excerpt)：

被処理水にオゾンガスを導入して浄化処理を行うオゾン水処理方法において、被処理ガスとオゾンガスが接触する接触槽内に残留する溶存オゾン濃度、または接触槽内でのオゾン吸収量を監視し、トリハロメタン生成能が低減可能な範囲で、しかも臭素酸が生成しない範囲の溶存オゾン濃度またはオゾン吸収量の所定値となるように、オゾン注入量を制御することを特徴とするオゾンによる水処理方法。

F-Term (9)：

4D050AA01 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 2次処理水の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-219339   Applicant：株式会社明電舎
• 高度浄水処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149967   Applicant：株式会社日立製作所
• 水処理方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-295708   Applicant：富士電機株式会社