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J-GLOBAL ID:200903078005417435
多層配線基板
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998274039
Publication number (International publication number):2000106484
Application date: Sep. 28, 1998
Publication date: Apr. 11, 2000
Summary:
【要約】【課題】有機樹脂絶縁層と薄膜配線導体層の熱膨張係数の相違に起因して発生する熱応力によって有機樹脂絶縁層にクラックが発生する。【解決手段】絶縁基板1と、該絶縁基板1上に形成され、有機樹脂絶縁層2と薄膜配線導体層3とを交互に積層するとともに上下に位置する薄膜配線導体層3を有機樹脂絶縁層2に設けたスルーホール導体6を介して電気的に接続してなる多層配線基板であって、前記有機樹脂絶縁層2間に配設される薄膜配線導体層3の側面aを下記式で表される曲率半径の曲面とした。R≧d/2 (R:曲率半径、d:薄膜配線導体層の厚み)
Claim (excerpt):
絶縁基板と、該絶縁基板上に形成され、有機樹脂絶縁層と薄膜配線導体層とを交互に積層するとともに上下に位置する薄膜配線導体層を有機樹脂絶縁層に設けたスルーホール導体を介して電気的に接続してなる多層配線基板であって、前記有機樹脂絶縁層間に配設される薄膜配線導体層の側面を下記式で表される曲率半径の曲面としたこと特徴とする多層配線基板。R≧d/2(R:曲率半径、d:薄膜配線導体層の厚み)
IPC (2):
FI (3):
H05K 3/46 B
, H05K 3/46 N
, H01L 23/12 N
F-Term (17):
5E346AA12
, 5E346AA15
, 5E346AA25
, 5E346AA32
, 5E346BB01
, 5E346BB15
, 5E346CC04
, 5E346CC08
, 5E346CC09
, 5E346CC14
, 5E346CC17
, 5E346CC32
, 5E346CC34
, 5E346CC37
, 5E346EE33
, 5E346HH11
, 5E346HH16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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プリント配線基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-305870
Applicant:富士通株式会社, 株式会社アルメックス
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配線基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-028950
Applicant:株式会社東芝
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