反射防止膜形成組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩見谷周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999220429
Publication number (International publication number)：2001040293
Application date： Aug. 03, 1999
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることのない、解像度および精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】下記式(1):【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2、R3は独立に一価の原子もしくは基である。]で示される二価の基を有する重合体および溶剤を含有してなる反射防止膜形成組成物。

Claim (excerpt)：

下記式(1)で示される二価の基を有する重合体および溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2、R3は独立に一価の原子もしくは基である。]

IPC (7)：

C09D201/00 , C08F299/02 , C08G 10/02 , C08L 61/18 , C09D161/18 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (7)：

C09D201/00 , C08F299/02 , C08G 10/02 , C08L 61/18 , C09D161/18 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 574

F-Term (62)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BC62 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB06 , 2H025CC03 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002CD002 , 4J002CE001 , 4J002EA056 , 4J002ED016 , 4J002EE026 , 4J002EH006 , 4J002EL066 , 4J002EP016 , 4J002ER007 , 4J002EU026 , 4J002EU187 , 4J002FD142 , 4J002FD147 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J002HA02 , 4J027AH03 , 4J027AJ01 , 4J027BA01 , 4J027CA03 , 4J027CA04 , 4J027CA06 , 4J027CA07 , 4J027CA10 , 4J027CA25 , 4J027CA29 , 4J027CB10 , 4J027CC04 , 4J027CC05 , 4J027CC06 , 4J027CC07 , 4J027CC08 , 4J027CD08 , 4J027CD10 , 4J033DA01 , 4J033DA02 , 4J033DA12 , 4J038DA101 , 4J038DG262 , 4J038GA01 , 4J038KA03 , 4J038NA19 , 5F046PA01 , 5F046PA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

反射防止コーティング組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-000065 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
反射防止膜形成組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-325670 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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