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J-GLOBAL ID：200903078031786341

金属酸化物薄膜の製膜用のエステル溶媒を用いた組成物および方法とこの薄膜を含む電子デバイス

Inventor： 内田 寛人 ,  曽山 信幸 ,  影山 謙介 ,  小木 勝実 ,  ベーコン,ジェフリー・ダブリュー ,  スコット,マイケル・シー ,  マクミラン,ラリー・ディー ,  パズデアラウジョ,カルロス・エイ
Applicant, Patent owner： シンメトリックス・コーポレイション ,  三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 広瀬 章一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998528977
Publication number (International publication number)：2001509766
Application date： Dec. 23, 1997
Publication date： Jul. 24, 2001
Summary：

【要約】金属有機液体先駆物質溶液は、エステル溶媒中に分散させた金属有機錯体を含む。エステル溶媒は、溶液中の強い電気的陽性の金属の析出を防止するために、中程度の長さの炭素鎖を有する。液体先駆物質溶液を用いて均一な膜厚と安定した品質の金属酸化物薄膜が成膜される。

Claim (excerpt)：

金属酸化物薄膜の成膜用溶液であって、 金属カルボキシラート部分の焼成後にその金属の酸化物を生じさせるのに有効な量の、少なくとも1種の金属カルボキシラートを有する金属カルボキシラート部分、および 炭素数4〜10のカルボキシラート部分を持ったエステルを含んでいる、溶液の20重量%以上を占める溶媒、により特徴づけられる溶液。

IPC (7)：

C01G 35/00 ,  C01B 13/32 ,  C01G 33/00 ,  C23C 18/12 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/108

FI (6)：

C01G 35/00 C ,  C01B 13/32 ,  C01G 33/00 A ,  C23C 18/12 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/10 651

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 金属酸化物の前駆体と製造方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-511197   Applicant：サイメトリックスコーポレイション
• 特表平7-502149
  
• 特表平7-502150
  
• 層状超格子物質を作製し、それを含む電子デバイスを作製する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-511140   Applicant：シメトリックス・コーポレーション, オリンパス光学工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• Preparation and ferroelectric properties of SrBi2Ta2O9 thin films
• Microstructural evolution and epitaxial alignment of thin films of lithium niobate deposited onto sa