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J-GLOBAL ID:200903078081655507

強誘電性キャパシタ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 八田 幹雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996061416
Publication number (International publication number):1996264735
Application date: Mar. 18, 1996
Publication date: Oct. 11, 1996
Summary:
【要約】【課題】 FRAMにメモリセルとして用いられる強誘電性キャパシタを提供する。【解決手段】 基板10と、前記基板10上に形成される絶縁層20と、前記絶縁層20上に備えられるRh下部電極40と、前記絶縁層20と前記下部電極40との間に介される接着層30と、前記Rh下部電極40上に備えられる強誘電体層50と、前記強誘電体層50上に備えられるRh上部電極60とを具備することにより、本発明の強誘電性キャパシタは、電極素材として用いられるRhが既存の電極として用いられるPtに比して組織が緻密なので接着層の素材として用いられるTiの拡散に非常に強く、かつ電気伝導度、熱伝達及び電気的特性が優秀である。
Claim (excerpt):
基板と、前記基板上に形成される絶縁層と、前記絶縁層上に備えられるRh下部電極と、前記絶縁層と前記Rh下部電極との間に介される接着層と、前記Rh下部電極上に備えられる強誘電体層と、前記強誘電体層上に備えられるRh上部電極とを具備することを特徴とする強誘電性キャパシタ。
IPC (8):
H01L 27/108 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 21/8247 ,  H01L 29/788 ,  H01L 29/792
FI (4):
H01L 27/10 651 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/04 C ,  H01L 29/78 371
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 強誘電体コンデンサ及びその形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-099773   Applicant:ラムトロン・インターナショナル・コーポレーション
  • 半導体装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-198422   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 強誘電体薄膜形成用電極
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-270010   Applicant:株式会社豊田中央研究所
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