研磨パッド用ドレッサ

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：深見久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001311296
Publication number (International publication number)：2003117823
Application date： Oct. 09, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：

【要約】【課題】被加工物であるハードディスク用基板の表面品質が規格値を満足するまでの時間を著しく短縮することができ、事実上ダミーポリッシングを省略することができる程度までドレッシング性能を向上させることが可能な研磨パッド用ドレッサを提供することである。【解決手段】ハードディスク用アルミニウム基板またはハードディスク用ガラス基板のポリッシング用研磨パッドのドレッシングに用いる研磨パッド用ドレッサ100であって、平均粒径が5μm以上20μm以下の超砥粒が結合材によって台金101の表面に一層の砥粒層102として固着されている。

Claim (excerpt)：

ハードディスク用アルミニウム基板またはハードディスク用ガラス基板のポリッシング用研磨パッドのドレッシングに用いる研磨パッド用ドレッサであって、平均粒径が5μm以上20μm以下の超砥粒が結合材によって台金の表面に一層固着されていることを特徴とする、研磨パッド用ドレッサ。

IPC (6)：

B24B 53/12 , B24B 53/02 , B24D 3/00 320 , B24D 3/06 , B24D 7/02 , B24B 37/00

FI (7)：

B24B 53/12 Z , B24B 53/02 , B24D 3/00 320 B , B24D 3/06 B , B24D 3/06 C , B24D 7/02 B , B24B 37/00 A

F-Term (19)：

3C047BB01 , 3C047BB16 , 3C047EE02 , 3C047EE11 , 3C047EE18 , 3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058AA19 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C063AA02 , 3C063AB05 , 3C063BB02 , 3C063BC02 , 3C063BG01 , 3C063BG07 , 3C063CC09 , 3C063CC12 , 3C063EE26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

磁気ディスク用基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-330697 Applicant：三菱アルミニウム株式会社
ポリッシング装置における研磨クロスのドレッシング方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-294423 Applicant：株式会社荏原製作所
特開昭64-051267

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