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J-GLOBAL ID：200903078246608657

ビーム源及び微細加工方法

Inventor： 畠山 雅規 ,  一木 克則 ,  當間 康
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996054056
Publication number (International publication number)：1997223594
Application date： Feb. 16, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高真空中で利用が可能で、低エネルギーの高速原子線源とプラズマジェットを多量に取出すことができるビーム源及びそのビーム源を用いた微細加工方法を提供する。【解決手段】 放電容器21と、プラズマ発生機構24,25と、ガス導入機構22と、プラズマ発生機構により発生されたプラズマ27を、ジェットビームとして放出するプラズマジェットノズル23とを備えた。

Claim (excerpt)：

放電容器と、プラズマ発生機構と、ガス導入機構と、前記プラズマ発生機構により発生されたプラズマを、ジェットビームとして放出するプラズマジェットノズルとを備えたことを特徴とするビーム源。

IPC (3)：

H05H 1/26 ,  G21K 5/04 ,  H05H 3/02

FI (3)：

H05H 1/26 ,  G21K 5/04 Z ,  H05H 3/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• プラズマ電磁加速器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-343827   Applicant：核融合科学研究所長
• 高速原子線源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-227993   Applicant：株式会社荏原製作所
• ガス噴射による表面処理方法および表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-134467   Applicant：株式会社小松製作所