有機分子膜パターンの製造方法及び製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：上柳雅誉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000202202
Publication number (International publication number)：2002023367
Application date： Jul. 04, 2000
Publication date： Jan. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】紫外光とフォトマスクを用いた有機分子膜パターンの作製には、タクトタイムが比較的長いため、製造コストが下がらない。【解決手段】基板表面に、膜厚が3nm以下の有機分子膜を形成した後に、基板表面近傍にオゾンを供給しながら有機分子膜に紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する。

Claim (excerpt)：

基板表面に、膜厚が3nm以下の有機分子膜を形成した後に、基板表面近傍にオゾンを供給しながら有機分子膜に紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する有機分子膜パターンの製造方法。

IPC (7)：

G03F 7/039 501 , B05D 3/06 102 , B05D 3/10 , B32B 9/00 , G03F 7/075 , G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 501 , B05D 3/06 102 Z , B05D 3/10 N , B32B 9/00 Z , G03F 7/075 , G03F 7/20 501 , H01L 21/30 514 C

F-Term (36)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BF30 , 2H097BA10 , 2H097CA12 , 2H097FA03 , 2H097FA06 , 2H097GA45 , 4D075BB20Y , 4D075BB46Y , 4D075BB56Y , 4D075DA04 , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DB13 , 4D075DB31 , 4D075DC22 , 4F100AG00A , 4F100AH00B , 4F100AH05B , 4F100AH06B , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100EJ54 , 4F100EJ60 , 4F100GB41 , 4F100JB09B , 4F100JL02 , 5F046AA28 , 5F046BA03 , 5F046CA02 , 5F046DA07 , 5F046JA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開昭63-204253
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-267000 Applicant：松下電器産業株式会社
微細加工方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-070955 Applicant：株式会社ニコン

Show all

Cited by examiner (5)

特開昭63-204253
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-267000 Applicant：松下電器産業株式会社
微細加工方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-070955 Applicant：株式会社ニコン

Show all

Return to Previous Page