表示装置用遮光膜、その製造方法及びこれを形成するための組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004105197
Publication number (International publication number)：2004334180
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：

【課題】簡便かつ低コストで光学濃度が高い表示装置用遮光膜を作製することができる方法を提供すること。【解決手段】金属微粒子及びバインダーを含有する塗布液を基板に塗布し、乾燥する工程を含む表示装置用遮光膜の製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

金属微粒子とバインダーを含有し、バインダー中に金属微粒子が分散した表示装置用遮光膜を形成するための組成物。

IPC (3)：

G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/11

FI (3)：

G02B5/20 101 , G03F7/004 501 , G03F7/11 501

F-Term (29)：

2H025AA19 , 2H025AB13 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025CC09 , 2H025DA01 , 2H025EA04 , 2H025FA17 , 2H048BA02 , 2H048BA11 , 2H048BA47 , 2H048BB01 , 2H048BB42 , 2H091FA34Y , 2H091FB04 , 2H091FB13 , 2H091FC10 , 2H091FC25 , 2H091FC29 , 2H091FD04 , 2H091FD06 , 2H091FD23 , 2H091LA03 , 2H091LA11 , 2H091LA12 , 2H091LA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ブラックマトリックス基板およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-168818 Applicant：大日本印刷株式会社
特開昭62-9301号公報
ブラックマトリックス基板およびこれを用いたカラーフィルタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-027365 Applicant：大日本印刷株式会社

Cited by examiner (13)

ブラックマトリックス及びその形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-078684 Applicant：富士写真フイルム株式会社
液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-345938 Applicant：キヤノン株式会社
カラーフィルタ基板とその製造方法、該基板を用いた液晶素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-264760 Applicant：キヤノン株式会社

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