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J-GLOBAL ID：200903078424897889

撮像装置

Inventor：
木島 貴行

About 木島 貴行

, 
吉田 英明

About 吉田 英明


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999356001
Publication number (International publication number)：2001177768
Application date： Dec. 15, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：
【要約】【課題】 長時間露光時のような暗出力レベルの大きな画素が大量発生する場合にも画質劣化を最小にとどめた高画質な画像を得ると共に、システムの破綻を生じないようにする。【解決手段】 CCD撮像素子105を用いて被写体像を撮像する撮像装置において、システムコントローラ112に制御の下に、撮像素子105の撮像動作状況における暗出力レベルを検出し、検出した暗出力レベルの値が大きいものから一定数以下の画素を欠陥画素として検出し、撮像素子105による本撮像時において各画素に関してその出力画素信号から暗出力レベルの値を減算し、撮像素子105による本撮像時において検出した欠陥画素に関してはその近傍の画素情報によって補償する。つまり、撮像素子105の画素毎の欠陥レベルを判定し、高レベルのものから補償対象として所定数以上のものは減算補正の対象とする。
Claim (excerpt)：
被写体像を撮像するための撮像素子と、この撮像素子の所定の撮像動作状況における暗出力レベルを検出する暗出力レベル検出手段と、この暗出力レベル検出手段が検出した暗出力レベルの値が大きいものから所定数以下の画素を欠陥画素として検出する欠陥画素検出手段と、前記撮像素子による本撮像時において各画素に関してその出力画素信号から前記暗出力レベルの値を減算する暗出力補正手段と、前記撮像素子による本撮像時において前記欠陥画素検出手段が検出した欠陥画素の情報に関しては当該画素近傍の画素情報によってこれを補償する画素欠陥補償手段と、を備えたことを特徴とする撮像装置。
IPC (2)：
H04N 5/335 ,  H01L 27/14
FI (2)：
H04N 5/335 P ,  H01L 27/14 Z
F-Term (15)：
4M118AA07 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118GB09 ,  4M118GC07 ,  5C024CX22 ,  5C024CX23 ,  5C024CX25 ,  5C024CX33 ,  5C024CY44 ,  5C024GY01 ,  5C024HX23 ,  5C024HX29 ,  5C024HX60 ,  5C024JX06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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