フォトマスクの欠陥検査方法、フォトマスクの欠陥検査装置及び記録媒体

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：竹村壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001038215
Publication number (International publication number)：2002244275
Application date： Feb. 15, 2001
Publication date： Aug. 30, 2002
Summary：

【要約】【課題】検査感度調整の際にマスク欠陥がデバイスの動作への影響が大きな領域と小さな領域とに分離して検査を行うことにより時間的、コスト的に有利な必要十分な欠陥検査ができる欠陥検査方法を提供する。【解決手段】フォトマスク10上の欠陥がデバイスの動作に与える影響に応じて、フォトマスク上の検査領域(例えば、領域A及び領域B)を2つ以上の領域に分割し、この分割した各々の検査領域に対して検査感度設定を行う。フォトマスク10の各パターンA、Bに応じて所望の検査感度で欠陥検査をすることにより必要十分な欠陥検査が可能になる。また、複数の検査領域を有するフォトマスクの所定のパターンに対する欠陥検査感度と欠陥検査位置とを定義した欠陥検査データを用意しこのデータに基づいてフォトマスク検査を行う。

Claim (excerpt)：

フォトマスクのパターンデータを2つ以上の検査領域に分割するステップと、前記分割された検査領域のそれぞれに対応した検査感度の設定を行うステップと、前記各検査領域毎にそれぞれに対応した前記検査感度を指定し、この検査感度に基づいて前記検査領域を順次検査するステップとを備えたことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 , G01N 21/956

FI (2)：

G03F 1/08 S , G01N 21/956 A

F-Term (11)：

2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051AC21 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA24 , 2G051EB09 , 2G051ED01 , 2H095BA01 , 2H095BD04 , 2H095BD28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

パターンを検査する検査装置の感度設定方法及び感度設定可能な検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-308602 Applicant：株式会社ニコン
パターン欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-323881 Applicant：株式会社東芝
パーティクル検査方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-242889 Applicant：富士通株式会社

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