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J-GLOBAL ID：200903078683474791

レーザ加工装置

Inventor：
鳥越 俊宏

About 鳥越 俊宏

, 
梶川 敏和

About 梶川 敏和

, 
山根 毅士

About 山根 毅士


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996347837
Publication number (International publication number)：1998190117
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】1kHz以上のQスイッチ繰り返し周波数でもファーストパルス問題が生じることがなく、またQスイッチ繰り返し周波数が変動しても安定したレーザパルス幅を得られるようにし、不定間隔で配置された加工点を高速に連続加工する。【解決手段】AOQスイッチ素子14を備えたレーザ発振器11を有し、Qスイッチレーザパルス光を加工面上に一定または不定な時間間隔で照射するレーザ加工装置において、レーザ発振器11のレーザ媒質にNd:YAG結晶よりも励起上準位寿命が短いNd:YVO4結晶13を用いる。
Claim (excerpt)：
Qスイッチ素子を備えたレーザ発振器を有し、前記レーザ発振器からのQスイッチレーザパルス光を加工面上に一定または不定な時間間隔で照射するレーザ加工装置において、前記レーザ発振器のレーザ媒質にNd:YAG結晶よりも励起上準位寿命が短いレーザ媒質を用いたことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4)：
H01S 3/117 ,  B23K 26/00 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/14
FI (4)：
H01S 3/117 ,  B23K 26/00 C ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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