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J-GLOBAL ID:200903078706949067
磁気記憶素子及び磁気メモリ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
角田 芳末
, 磯山 弘信
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003317123
Publication number (International publication number):2005086015
Application date: Sep. 09, 2003
Publication date: Mar. 31, 2005
Summary:
【課題】 情報を安定して保持することができると共に、小さい磁場で情報の記録を行うことができる磁気記憶素子及び磁気メモリを提供する。【解決手段】 情報を磁性体の磁化状態によって保持する記憶層1が4層以上の偶数の磁性層11,12,13,14及びその間の非磁性層15から成り、各磁性層11,12,13,14の磁化M1,M2,M3,M4の大きさが記憶層1の上下にほぼ対称であり、非磁性層15を介して隣接する磁性層の磁化M1及びM2,M2及びM3,M3及びM4の向きが互いに反平行である磁気記憶素子10を構成する。また、この磁気記憶素子10と、それぞれ交差する第1の配線と第2の配線とを有し、第1の配線及び第2の配線とが交差する交点付近に、それぞれ磁気記憶素子10が配置されて成る磁気メモリを構成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
情報を磁性体の磁化状態によって保持する記憶層が、4層以上の偶数の磁性層及びその間の非磁性層から成り、
各前記磁性層の磁化の大きさが、前記記憶層の上下にほぼ対称であり、
前記非磁性層を介して隣接する前記磁性層の磁化の向きが互いに反平行である
ことを特徴とする磁気記憶素子。
IPC (3):
H01L27/105
, G11C11/15
, H01L43/08
FI (4):
H01L27/10 447
, G11C11/15 112
, H01L43/08 P
, H01L43/08 Z
F-Term (3):
5F083FZ10
, 5F083LA12
, 5F083LA16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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米国特許出願公開第2003/0072174号明細書
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強磁性トンネル磁気抵抗効果素子、磁気メモリ及び磁気抵抗効果型ヘッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-347446
Applicant:株式会社日立製作所
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磁気抵抗効果素子および磁気メモリ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-265664
Applicant:株式会社東芝
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磁気抵抗効果素子および磁気メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-339934
Applicant:株式会社東芝
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Cited by examiner (4)