微細構造体の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999262664
Publication number (International publication number)：2001085667
Application date： Sep. 16, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】有機材料あるいは有機分子をナノスケールで微細加工方法を提供する。【解決手段】基材10表面に、局所的に正電荷あるいは負電荷を与え、該電荷によるパターン16、18を形成する第1の工程と、負電荷あるいは正電荷を有する官能基をその構造の一部とする有機分子を含む溶液に基材を浸積し、前記電荷によるパターンに基づいて該有機分子の層20(22、24)を形成する第2工程と、を具備する微細構造体の製造方法。

Claim (excerpt)：

基材表面に、局所的に正電荷あるいは負電荷を与え、該電荷によるパターンを形成する第1の工程と、負電荷あるいは正電荷を有する官能基をその構造の一部とする有機分子を含む溶液に基材を浸積し、前記電荷によるパターンに基づいて該有機分子の層を形成する第2工程と、を具備する微細構造体の製造方法。

IPC (2)：

H01L 29/06 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 29/06 , H01L 21/30 502 D

F-Term (4)：

5F046AA28 , 5F046HA03 , 5F046JA22 , 5F046JA27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

磁気記録媒体およびそれを用いた磁気記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-225028 Applicant：キヤノン株式会社
記録媒体及び情報処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-115250 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-326719

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