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J-GLOBAL ID:200903071025866738
有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999094349
Publication number (International publication number):2000282240
Application date: Mar. 31, 1999
Publication date: Oct. 10, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】稠密な単分子膜を簡便な方法で基板上に自己集積させる方法、更に有機単分子膜を精度良く、簡便な方法でパターニングする方法を提供する。【解決手段】基板をあらかじめ何らかの方法で洗浄した後、該表面を親水化させて、フッ化アルキルシランの単分子膜を該基板上に化学気相蒸着法で形成することで有機単分子膜を形成する。また酸素を含む雰囲気下で紫外線を照射し、フッ化アルキルシランの単分子膜を除去することで有機単分子膜をパターニングする。
Claim (excerpt):
基板をあらかじめ何らかの方法で洗浄した後、該表面を親水化させて、フッ化アルキルシランの単分子膜を該基板上に化学気相蒸着法で形成することを特徴とする有機単分子膜の形成方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (18):
2H096AA30
, 2H096BA09
, 2H096BA13
, 2H096CA01
, 2H096CA03
, 2H096CA17
, 2H096CA20
, 2H096EA02
, 2H096FA04
, 2H096HA23
, 4K030AA04
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030CA04
, 4K030CA07
, 4K030DA03
, 4K030EA01
, 4K030FA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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転写による微細加工のための型およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-014088
Applicant:株式会社ニコン
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光学部材の製造方法、光学部材及びその光学部材を用いた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-173453
Applicant:株式会社ニコン
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微細加工方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-070955
Applicant:株式会社ニコン
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化学吸着膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-124468
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開昭62-105691
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薄膜半導体太陽電池の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-289138
Applicant:キヤノン株式会社
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特開昭62-293242
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特開平3-272037
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特開平4-326719
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パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-225333
Applicant:株式会社東芝
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表面伝導型電子放出素子およびその製造方法、ならびに同電子放出素子を備えた電子源、画像形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-078163
Applicant:キヤノン株式会社
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