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J-GLOBAL ID:200903071025866738

有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999094349
Publication number (International publication number):2000282240
Application date: Mar. 31, 1999
Publication date: Oct. 10, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】稠密な単分子膜を簡便な方法で基板上に自己集積させる方法、更に有機単分子膜を精度良く、簡便な方法でパターニングする方法を提供する。【解決手段】基板をあらかじめ何らかの方法で洗浄した後、該表面を親水化させて、フッ化アルキルシランの単分子膜を該基板上に化学気相蒸着法で形成することで有機単分子膜を形成する。また酸素を含む雰囲気下で紫外線を照射し、フッ化アルキルシランの単分子膜を除去することで有機単分子膜をパターニングする。
Claim (excerpt):
基板をあらかじめ何らかの方法で洗浄した後、該表面を親水化させて、フッ化アルキルシランの単分子膜を該基板上に化学気相蒸着法で形成することを特徴とする有機単分子膜の形成方法。
IPC (2):
C23C 16/30 ,  G03F 7/36
FI (2):
C23C 16/30 ,  G03F 7/36
F-Term (18):
2H096AA30 ,  2H096BA09 ,  2H096BA13 ,  2H096CA01 ,  2H096CA03 ,  2H096CA17 ,  2H096CA20 ,  2H096EA02 ,  2H096FA04 ,  2H096HA23 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030CA04 ,  4K030CA07 ,  4K030DA03 ,  4K030EA01 ,  4K030FA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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