Pat
J-GLOBAL ID：200903079048163352

表面グラフト材料およびそれを用いたグラフトパターン形成方法

Inventor：
川村 浩一

About 川村 浩一


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004081482
Publication number (International publication number)：2005264078
Application date： Mar. 19, 2004
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：
【課題】 高解像度ポリマーパターンを形成しうるパターン形成材料として有用な表面グラフト材料及び、それを用いた、高解像度グラフトポリマーパターンを形成しうるグラフトパターン形成方法を提供する。【解決手段】 基材表面に共有結合により片末端で直接結合してなる表面グラフトポリマー鎖を有する基材であって、該表面グラフトポリマー鎖が、光開裂しうる部位を介して基材表面と共有結合してなることを特徴とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
基材表面に共有結合により片末端で直接結合してなる表面グラフトポリマー鎖を有する基材であって、該表面グラフトポリマー鎖が、光開裂しうる部位を介して基材表面と共有結合してなることを特徴とする表面グラフト材料。
IPC (3)：
C08F292/00 ,  C08J7/16 ,  G03F7/00
FI (3)：
C08F292/00 ,  C08J7/16 ,  G03F7/00 503
F-Term (22)：
2H096AA06 ,  2H096BA01 ,  2H096EA02 ,  4F073AA32 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073FA03 ,  4F073FA04 ,  4J026BA05 ,  4J026BA16 ,  4J026BA24 ,  4J026BA25 ,  4J026BA28 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026BA32 ,  4J026BB01 ,  4J026CA09 ,  4J026DB06 ,  4J026EA02 ,  4J026FA05 ,  4J026GA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM