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J-GLOBAL ID：200903045337399320

パターン形成材料及び画像形成材料

Inventor：
加納 丈嘉

About 加納 丈嘉

, 
川村 浩一

About 川村 浩一


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002190874
Publication number (International publication number)：2003222972
Application date： Jun. 28, 2002
Publication date： Aug. 08, 2003
Summary：
【要約】【課題】 露光後、現像工程を行うことなくパターン形成が可能であり、かつ、極性変化により親水性と疎水性の差が大きく明確な2つの領域を形成することが可能であるパターン形成材料、及びそれを用いた高解像度の画像形成が可能な画像形成材料を提供することを目的とする。【解決手段】 支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、700nm以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料、及びそれを用いた画像形成材料。
Claim (excerpt)：
支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、700nm以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (3)：
G03C 1/73 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/40 521
FI (3)：
G03C 1/73 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/40 521
F-Term (21)：
2H025AA17 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BH03 ,  2H025FA37 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA04 ,  2H096HA09 ,  2H123AE00 ,  2H123AE01 ,  2H123BA00 ,  2H123BA01 ,  2H123CA00 ,  2H123CA22 ,  2H123FA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
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