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J-GLOBAL ID：200903079469171214

ケイ素系正孔輸送材の製造方法

Inventor：
櫛引 信男

About 櫛引 信男

, 
竹内 貴久子

About 竹内 貴久子


Applicant, Patent owner：
ダウ コーニング アジア株式会社

About ダウ コーニング アジア株式会社


Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995287634
Publication number (International publication number)：1997127710
Application date： Nov. 06, 1995
Publication date： May. 16, 1997
Summary：
【要約】【課題】 ポリシロキサン樹脂に電荷輸送能を与えるための、この樹脂に対して溶解可能な正孔輸送材の製法を提供する。【解決手段】 芳香族基を有する3級アミンであって、イオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物の該芳香族基の芳香環上において炭化水素基を介してアルコキシシリル基を導入し、下記一般式(1)で示されるケイ素系正孔輸送材を製造する。A-〔R1 SiR2 3-n Qn 〕p (1)(Aは芳香族基を有する3級アミンであってイオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物から誘導される有機基;R1 は炭素数1〜6のアルキレン基;R2 はハロゲンを有することのある炭素数1〜15の1価の炭化水素基;R3 は炭素数1〜6のアルキル基;nは1〜3の整数;pは1〜3の整数。)
Claim (excerpt)：
複数の芳香族基を有する芳香族置換3級アミンであって、イオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物の該芳香族基の内の少なくとも1つ、の芳香環上において炭化水素基を介して加水分解性基を有するシリル基を導入することを特徴とする下記一般式(1)で示されるケイ素系正孔輸送材の製造方法。A-〔R1 SiR2 3-n Qn 〕p (1)(ここに、Aは複数の芳香族基を有する芳香族置換3級アミンであってイオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物から誘導された有機基を表し、R1 は炭素数1〜18のアルキレン基、R2 はハロゲンを有することのある炭素数1〜15の1価の炭化水素基、Qは加水分解性基、nは1〜3の整数、pは1〜3の整数である。)
IPC (5)：
G03G 5/06 312 ,  C07F 7/18 ,  C08L 83/04 ,  G03G 5/07 103 ,  C08G 77/04 NUA
FI (5)：
G03G 5/06 312 ,  C07F 7/18 M ,  C08L 83/04 ,  G03G 5/07 103 ,  C08G 77/04 NUA
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (18)
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