Pat
J-GLOBAL ID：200903079504379869

フォトレジストフィルム

Inventor：
日向 淳悦

About 日向 淳悦

, 
佐藤 弘章

About 佐藤 弘章


Applicant, Patent owner：
日本合成化学工業株式会社

About 日本合成化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997194816
Publication number (International publication number)：1999024259
Application date： Jul. 04, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 感度、解像度、密着性、抑泡性、耐エッチング性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム、感光性樹脂組成物層、保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルムのヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)ロフィン二量体、(d)光重合開始剤、(e)ロイコ染料を含有してなり、(b)成分として特定化合物を(b)成分全体に対して50〜100重量%含有し、更に(a)成分と(b)成分の総重量に対して(c)成分を0.5〜6.0重量%、(d)成分を0.1〜10重量%、(e)成分を0.1〜3.0重量%含有してなるフォトレジストフィルム。
Claim (excerpt)：
支持体フィルム(I)、感光性樹脂組成物層(II)、保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)のヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)ロフィン二量体、(d)光重合開始剤、(e)ロイコ染料を含有してなり、(b)成分として下記?@式で示される化合物を(b)成分全体に対して50〜100重量%含有し、更に(a)成分と(b)成分の総重量に対して(c)成分を0.5〜6.0重量%、(d)成分を0.1〜10重量%、(e)成分を0.1〜3.0重量%含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。【化1】(ここで、R1、R2は炭素数1〜3のアルキル基又は水素で、それらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。nは4〜20の整数である。)
IPC (9)：
G03F 7/031 ,  C08F 2/50 ,  C08F220/20 ,  C08F290/06 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/06
FI (9)：
G03F 7/031 ,  C08F 2/50 ,  C08F220/20 ,  C08F290/06 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/06 H
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM