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J-GLOBAL ID:200903079567259456
分子検出装置及び分子検出装置を用いた洗浄装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
清水 敏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006231502
Publication number (International publication number):2008057980
Application date: Aug. 29, 2006
Publication date: Mar. 13, 2008
Summary:
【課題】 環境に対する負荷が少なく、かつ繰返し利用できる普及型の表面プラズモン共鳴センサの応用装置を提供する。【解決手段】 表面プラズモン共鳴を用いて両親媒性分子を検出する分子検出装置52は、全反射面を有する透明基板としてのプリズム84と、プリズム84の全反射面上に形成された金属層86と、プリズム84の全反射面に関し、金属層86と反対側に配置された光源80と、金属層86上に形成された保護層88と、保護層88上に形成された疎水層90と、光源80により出射され、金属層86によって反射された反射光に表面プラズモン共鳴により生ずる暗線の位置の変化を検出するための光検出器92とを含む。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
表面プラズモン共鳴を用いて両親媒性分子を検出する分子検出装置であって、
第1の反射面を有する透明基板と、
前記透明基板の前記第1の反射面上に形成された金属層と、
前記第1の反射面に関し、前記金属層と反対側に、前記第1の反射面に全反射条件で光が入射する様に配置された光源と、
前記金属層上に形成された疎水層と、
前記光源により出射され、前記反射面によって反射された反射光に表面プラズモン共鳴により生ずる暗線の位置の変化を検出するための検出手段と、
前記金属層と前記疎水層との間に形成された、前記金属層を保護するための保護層とを含む、分子検出装置。
IPC (2):
FI (2):
G01N21/27 C
, D06F33/02 Q
F-Term (25):
2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059CC12
, 2G059EE02
, 2G059FF07
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ12
, 2G059KK03
, 2G059MM05
, 2G059MM15
, 2G059NN07
, 3B155AA01
, 3B155BB01
, 3B155BB19
, 3B155KA11
, 3B155KA23
, 3B155KB14
, 3B155LC08
, 3B155MA02
, 3B155MA05
, 3B155MA06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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バイオセンサー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-429860
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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微量油分検知装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-187953
Applicant:富士電機株式会社, 塩川祥子
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特開平2-044230
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Cited by examiner (6)
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特開平2-044230
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表面プラズモン共鳴分光装置及び表面プラズモン共鳴分光方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-584854
Applicant:ジアリゾナボードオブリージェンツオンビハーフオブザユニバーシティオブアリゾナ
-
単色光を用いた差動式SPRセンサー及び該センサーを用いた測定法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-337467
Applicant:軽部征夫, 秋元卓央, 学校法人片柳学園
-
微量油分検知装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-187953
Applicant:富士電機株式会社, 塩川祥子
-
洗濯機の洗濯制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-185949
Applicant:シャープ株式会社
-
分光光度計とその減衰全反射プリズムの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-235986
Applicant:株式会社日立製作所
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