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J-GLOBAL ID：200903079708198316

粒子分析装置

Inventor：
小坂 時弘

About 小坂 時弘


Applicant, Patent owner：
シスメックス株式会社

About シスメックス株式会社


Agent (1)： 西野 卓嗣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000389350
Publication number (International publication number)：2002188993
Application date： Dec. 21, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】形態・構造が単純な粒子と、形態・構造が複雑な粒子もしくは粒子の近接通過とを区別するためのパラメータとして光検出信号波形の差分積分値を算出し、分類精度を向上させた粒子分析装置を提供する。【解決手段】粒子の光検出信号波形をサンプリングA/D変換し、隣り合うサンプリングデータの差の絶対値を累積加算することによって信号波形の差分積分値を求める。その後、信号波形の差分積分値と、ピークレベルやパルス幅といった他のパラメータとを用いてスキャッタグラムやヒストグラムなどを作成し、粒子を分類する。
Claim (excerpt)：
粒子を含む試料液をシースフローセルに流し、前記シースフローセルにレーザ光を照射して前記粒子から光検出信号を検出する検出部と、前記検出部で検出された光検出信号の信号波形を処理して粒子の特徴を表すパラメータを算出する信号処理部と、前記信号処理部によって算出されたパラメータをもとに粒子の分析を行う分析部と、を備えた粒子分析装置において、前記信号処理部がパラメータとして前記信号波形の差分積分値を算出することを特徴とした粒子分析装置。
IPC (2)：
G01N 15/14 ,  G01N 33/483
FI (3)：
G01N 15/14 K ,  G01N 15/14 C ,  G01N 33/483 C
F-Term (12)：
2G045AA01 ,  2G045AA15 ,  2G045CA25 ,  2G045CB03 ,  2G045FA12 ,  2G045FA37 ,  2G045GB05 ,  2G045GC11 ,  2G045GC15 ,  2G045JA01 ,  2G045JA04 ,  2G045JA07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 粒子測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-115312   Applicant：シスメックス株式会社
  • 粒子分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-279490   Applicant：東亜医用電子株式会社
  • 特開昭63-298029
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