ガラス研磨用研磨材組成物およびその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内田幸男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997078943
Publication number (International publication number)：1998176164
Application date： Mar. 13, 1997
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】【課題】研磨材スラリー中での砥粒の分離が起こらないため研磨効果を長期にわたって維持することができ、且つ、被加工物や研磨機の洗浄性および研磨品質に優れた研磨材を提供する。【解決手段】酸化セリウムを含む希土類酸化物を主成分とする研磨材、キレート化剤、特定のアルミニウムのアセトナト錯体および有機分散剤を配合する。

Claim (excerpt)：

酸化セリウムを含む希土類酸化物を主成分とする研磨材、キレート化剤、次の一般式(I)で表わされるアセトナト配位子を1〜3個有するアルミニウムのアセトナト錯体および有機分散剤が含有されていることを特徴とするガラス研磨用研磨材組成物。【化1】(式中のRは炭素数1または2のアルキルまたはアルコキシ基である。)

IPC (3)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , C03C 19/00

FI (3)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , C03C 19/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

磁気ディスク基板研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-136821 Applicant：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
研磨液及び基体の研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-217210 Applicant：旭硝子株式会社
ガラス研磨用研磨材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-138948 Applicant：三井金属鉱業株式会社

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