処理方法及び処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：中本菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995183540
Publication number (International publication number)：1997017839
Application date： Jun. 27, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】被処理体を収容する容器のセット状態の監視及び容器内の被処理体を選出し取り出す搬送手段の動作の監視を行うことにより、処理能率の向上及び歩留りの向上を図る。【構成】複数の被処理体例えば半導体ウエハWを収容する容器6と、この容器6から選出された所定の半導体ウエハWを搬出入する搬送機構4と、半導体ウエハWに適宜処理を施す処理部3とを具備する処理装置において、容器6の有無を検出するカセットセンサ7と、このカセットセンサ7からの信号に基づいて駆動するCPU8を設ける。容器6が無い場合に、その状態をアラーム9にて表示し、アラーム表示に基づいて容器6を所定位置にセットした後、セットされた容器6内の半導体ウエハWをマッピングセンサ18にて選出すると共に、搬送機構4の異常動作を検出し、その検出信号をCPU8に伝達する。

Claim (excerpt)：

複数の被処理体を収容する容器から選出された被処理体を搬出して適宜処理を施す処理方法において、上記容器の有無を検出する工程と、上記容器が無い場合に、その状態を表示する工程と、上記表示に基づいて上記容器を所定位置にセットする工程と、セットされた上記容器内の上記被処理体を選出する工程と、を有することを特徴とする処理方法。

IPC (3)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , H01L 21/02

FI (3)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 C , H01L 21/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-042743
処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-300960 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平3-088634

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