化学マイクロデバイス

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松川克明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001360219
Publication number (International publication number)：2003159696
Application date： Nov. 27, 2001
Publication date： Jun. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】微少な量で分析や反応等を行うのに用いるマイクロチップ,マイクロリアクター等の化学マイクロデバイスの成形が簡単に行えると共に、適当な位置に金属層を設けることも簡単に行え、適当な位置に金属層が設けられた化学マイクロデバイスを安価に量産できるようにする。【解決手段】化学マイクロデバイスを無電解メッキ性能の異なる2種以上のプラスチック材料10a,10bで構成し、無電解メッキが容易なプラスチック材料10aで構成された少なくとも一部に無電解メッキによる金属層11を設けるようにした。

Claim (excerpt)：

無電解メッキ性能の異なる2種以上のプラスチック材料10a,10bで構成され、無電解メッキが容易なプラスチック材料10aで構成された少なくとも一部に無電解メッキによる金属層11が形成されてなることを特徴とする化学マイクロデバイス。

IPC (3)：

B81B 1/00 , B01J 19/00 321 , G01N 37/00 101

FI (3)：

B81B 1/00 , B01J 19/00 321 , G01N 37/00 101

F-Term (15)：

4G075AA02 , 4G075AA39 , 4G075AA63 , 4G075BA10 , 4G075BB10 , 4G075CA01 , 4G075CA20 , 4G075DA02 , 4G075EA05 , 4G075EB01 , 4G075EE12 , 4G075EE21 , 4G075FA01 , 4G075FB02 , 4G075FB12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

樹脂組成物、それを用いた樹脂成形品およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-041145 Applicant：アイシン精機株式会社
分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-167603 Applicant：旭化成工業株式会社
ガスセンサ及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-147763 Applicant：矢崎総業株式会社

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