エバネッセント光露光装置及び該エバネッセント光露光装置に用いるマスク及びエバネッセント光露光方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：若林忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997355336
Publication number (International publication number)：1999184094
Application date： Dec. 24, 1997
Publication date： Jul. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】光の波長以下の一括露光を容易に行えるエバネッセント光露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】与圧容器103にはシリンダ106が接続され、内部は屈折率調整液105で満たされる。シリンダ106をピストン駆動モータ108で駆動することで、与圧容器103内部の屈折率調整液105の圧力を調整することができる。与圧容器103にはレーザ111より射出された後、コリメータレンズ113で平行光となったレーザ112の導入用のガラス窓114が設けられる。基板102はステージ110に搭載され、基板102の表面にはレジスト109が塗布されている。エバネッセント光マスク101は、エバネッセント光マスク母材104とエバネッセント光マスク金属パターン115から構成され、表面101aが被加工用の基板102に対面し、裏面101bが屈折率調整液105に接するように与圧容器103に取り付けられる。

Claim (excerpt)：

マスクにおけるパターンを、エバネッセント光により被露光物に露光させるエバネッセント光露光装置において、前記マスクの表面側と裏面側とに圧力差を発生させる手段と、前記被露光物を前記マスクの表面に対向した配置で保持する手段と、前記マスクの表面と前記被露光物との界面で全反射となる角度で、前記マスクの裏面から光を照射する光源とを有することを特徴とするエバネッセント光露光装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/20 501 , G03F 1/14 B , H01L 21/30 502 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

光露光または転写方法および装置またはそのためのマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-319781 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭55-059721
特開昭61-294820

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