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J-GLOBAL ID:200903080198730067

ダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 清水 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003027544
Publication number (International publication number):2004237177
Application date: Feb. 04, 2003
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
【課題】種々の態様のダブルエマルション・マイクロカプセルを簡便にしかも容易に作製することができるダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置を提供する。【解決手段】第1連続相101と第1分散相104とが交差する第1の交差部107と、この第1の交差部107の下流である第2分散相108と第2連続相110とが交差する第2の交差部113とが形成されるマイクロチャネルからなるダブルエマルション・マイクロカプセル生成チップ100を具備する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
第1連続相と第1分散相とが交差する第1の交差部と、該第1の交差部の下流である第2分散相と第2連続相とが交差する第2の交差部とが形成されるマイクロチャネルからなるダブルエマルション・マイクロカプセル生成チップを具備することを特徴とするダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置。
IPC (4):
B01F3/08 ,  B01F5/04 ,  B81B1/00 ,  B81B7/02
FI (4):
B01F3/08 A ,  B01F5/04 ,  B81B1/00 ,  B81B7/02
F-Term (3):
4G035AB40 ,  4G035AC50 ,  4G035AE17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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