Pat
J-GLOBAL ID:200903080261157542
CW深紫外線光源
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
園田 吉隆
, 小林 義教
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004259075
Publication number (International publication number):2006073970
Application date: Sep. 06, 2004
Publication date: Mar. 16, 2006
Summary:
【課題】 レーザーヘッド部の小型化を実現した紫外線レーザー装置を提供する。【解決手段】 少なくとも2つのレーザー光を用いて和周波混合により、波長200nm以下のCWレーザー光を発生させる装置であって、前記少なくとも2つのレーザー光のうち、少なくとも一方のレーザー光はファイバーレーザーである装置を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
2つのレーザー光を非線形光学結晶により和周波混合を行い、紫外域波長のCWレーザー光を発生させる装置であって、前記2つのレーザー光のうち、少なくとも一方のレーザー光はファイバーレーザーである装置。
IPC (3):
H01S 3/108
, G02F 1/37
, H01S 3/06
FI (3):
H01S3/108
, G02F1/37
, H01S3/06 B
F-Term (10):
2K002AA07
, 2K002AB12
, 2K002BA01
, 2K002HA20
, 5F172AD02
, 5F172AM08
, 5F172CC04
, 5F172NP02
, 5F172NQ09
, 5F172NQ62
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
波長変換装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-054119
Applicant:サイバーレーザー株式会社
Cited by examiner (13)
-
光源装置及び光照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-162004
Applicant:株式会社ニコン
-
波長変換装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-054119
Applicant:サイバーレーザー株式会社
-
光源装置及び光照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-359428
Applicant:株式会社ニコン
-
コヒーレント光放射を生成する方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-018502
Applicant:アモココ-ポレ-シヨン
-
特開平4-099079
-
特開平1-082582
-
光源装置及び光照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-189435
Applicant:株式会社ニコン
-
レーザ光発生装置及びレーザ光発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-199067
Applicant:ソニー株式会社
-
短パルスレーザー安定制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-354301
Applicant:イムラアメリカインコーポレイテッド
-
高出力光パルスの発生装置および発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-011595
Applicant:イムラアメリカインコーポレイテッド
-
モ-ドロック多モ-ドファイバレ-ザパルス光源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-334914
Applicant:イムラアメリカインコーポレイテッド
-
低ノイズ化全固体第二高調波レーザ発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-280619
Applicant:日立金属株式会社
-
光波長変換モジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-056642
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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