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J-GLOBAL ID：200903080333891327

櫛型電極を有する大気圧プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理方法

Inventor： 竹井 日出夫 ,  崎尾 進
Applicant, Patent owner： 株式会社アルバック
Agent (1)： 八木田 茂 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001252942
Publication number (International publication number)：2003062452
Application date： Aug. 23, 2001
Publication date： Mar. 04, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】基板側に与えるダメージが極めて少なく、大面積でしかも均一なプラズマを生成できる大気圧プラズマ生成方法及び装置並びに上記の大気圧プラズマ生成方法を使用して基板を連続して処理できる大気圧プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】大気圧に保持され、プラズマ処理空間を画定するチャンバ内に、二つ以上の電極を櫛型にかつ平面状に配置し、各電極を誘電体で被覆又は封止して成る櫛型電極組立体を有し、各電極間に交番電力を印加して、均一なプラズマを生成することから成る。さらに、処理すべき基板を櫛型電極組立体に対して、平行に連続して移動し、生成されたプラズマにより基板表面を連続してプラズマ処理することから成る。

Claim (excerpt)：

【請求項1】大気圧に保持され、プラズマ処理空間を画定するチャンバ内に、二つ以上の電極を櫛型にかつ平面状に配置し、各電極を誘電体で被覆又は封止して成る櫛型電極組立体を有し、各電極間に交番電力を印加して電極間にプラズマを生成させる電源装置を設けたことを特徴とする大気圧プラズマ生成装置。

IPC (3)：

B01J 19/08 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (3)：

B01J 19/08 H ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B

F-Term (18)：

4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075CA25 ,  4G075CA26 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EE40 ,  4G075FB06 ,  5F004AA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB28 ,  5F004CA03 ,  5F004DA01 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F004DB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-295958   Applicant：松下電工株式会社
• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-363082   Applicant：田中栄
• 特開平3-031480
  
• 特開平3-031480