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J-GLOBAL ID：200903080466115524

クリーンルームシステム

Inventor：
稲葉 仁

About 稲葉 仁

, 
西村 浩一

About 西村 浩一

, 
五味 弘

About 五味 弘


Applicant, Patent owner：
高砂熱学工業株式会社

About 高砂熱学工業株式会社


Agent (1)： 遠山 勉 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999214368
Publication number (International publication number)：2001044089
Application date： Jul. 28, 1999
Publication date： Feb. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 電子デバイス製品等における、製造品へのガス状汚染物質の付着、水分の付着による障害の防止と静電気障害の防止とを同時に達成するクリーンルームシステムを提供すること。【解決手段】 既設のクリーンルーム100内に互いに隣接するウエハ製造装置7とハンドリングチャンバ4を配置し、ハンドリングチャンバ4には汚染物質が除去されかつ低露点のクリーンエアを供給するクリーンエア供給装置2をサプライダクト5を介して接続し、ハンドリングチャンバ4内には、半導体ウエハをハンドリングするハンドリングアーム11と、ハンドリングアーム上の半導体ウエハの帯電を電気的に中和する軟X線照射装置3と、クリーンエア供給装置2に連動して清浄空間1からクリーンエアを外部に排気する差圧排気口6とを備えてなるクリーンルームシステム。
Claim (excerpt)：
塵埃及びガス状汚染物質を含む汚染物質が除去されかつ低露点のクリーンガスを清浄空間に供給するクリーンガス供給手段と、前記清浄空間内の帯電物を電気的に中和する除電手段と、を備えることを特徴とするクリーンルームシステム。
IPC (5)：
H01L 21/02 ,  B01D 46/42 ,  B01D 53/26 101 ,  B01D 53/26 ,  H05F 3/06
FI (5)：
H01L 21/02 D ,  B01D 46/42 Z ,  B01D 53/26 101 B ,  B01D 53/26 101 C ,  H05F 3/06
F-Term (34)：
4D052AA00 ,  4D052AA08 ,  4D052CB04 ,  4D052CE00 ,  4D052DA02 ,  4D052DA06 ,  4D052DB01 ,  4D052DB04 ,  4D052GA01 ,  4D052GA03 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03 ,  4D052GB04 ,  4D052GB08 ,  4D052GB09 ,  4D052HA01 ,  4D052HA02 ,  4D052HA03 ,  4D052HA17 ,  4D052HA18 ,  4D052HA19 ,  4D052HA21 ,  4D052HB02 ,  4D058KC02 ,  4D058KC04 ,  4D058LA05 ,  4D058SA04 ,  4D058TA02 ,  4D058TA07 ,  4D058UA12 ,  4D058UA25 ,  4D058UA30 ,  5G067AA42 ,  5G067DA24
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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